大阪大学 · 工学研究科 · 教授
大参 宏昌
Ohmi Hiromasa
别名: オオミ ヒロマサ / OHMI Hiromasa
Research fields
研究领域
按日本文部科学省 科研費審査区分表 自动归类。KAKEN 项目数越多,代表教授在该领域投入越深。第一个为「主业」。
- 主业工学大区分
- 生産工学・加工学細目
- 応用物性・結晶工学小区分
- 応用物理学・工学基礎中区分
- 材料工学およびその関連分野大区分
- 機械工学中区分
- 理工系大区分
- 電子・電気材料工学細目
- 電気電子工学中区分
Research keywords
这位教授在研究什么
基于他/她公开的科研项目与论文自动提取的研究关键词,出现频次越高显示越大。
KAKEN grants
科研项目(近期在前)
KAKENHI 是日本科研最权威的经费系统,基金层级越高(S > A > B)越能反映影响力。
- 2025KAKENHI-挑戦的研究(萌芽)低温プラズマ低温接合金属水素配線
- 2024KAKENHI-基盤研究(B)
水素プラズマを用いた極薄結晶シリコン太陽電池のスマート製造プロセスの開発 ↗
ナノ構造ナノ物性水素プラズマ加工Si薄膜太陽電池シリコン - 2020KAKENHI-基盤研究(B)
高圧水素プラズマによる光マネジメント用半導体表面ナノ構造の創成 ↗
水素プラズマSi特殊加工表面処理反射率制御水素プラズマ無反射 - 2018KAKENHI-挑戦的研究(萌芽)
高密度水素ラジカルを利用した低環境負荷型金属配線形成プロセスの開発 ↗
水素金属配線プラズマ成膜加工化学輸送エッチング - 2017KAKENHI-挑戦的研究(萌芽)
高密度Nラジカルと金属の反応による窒化物ナノ構造の形成 ↗
InNナノ構造大気圧プラズマ電子密度電子温度電磁場シミュレーションインピーダンス整合窒素プラズマ窒素ラジカル - 2016KAKENHI-基盤研究(B)
水素サイクルによるケミカルフリー高品位半導体基板創成プロセスの開発 ↗
シリコンプラズマ水素ウエハ加工製造技術欠陥制御ゲッタリングウエハ - 2015KAKENHI-挑戦的萌芽研究
非平衡高圧水素プラズマによるシリコン次元変換ソフトプロセスの開発 ↗
シリコン水素プラズマナノ粒子ナノシリコン水素プラズマ微粒子精製 - 2013KAKENHI-基盤研究(B)
プラズマ・ナノ科学による金属級シリコン原料から高品質ナノワイヤシリコンの直接創成 ↗
ナノワイヤシリコン太陽電池プラズマ水素精製ナノマイクロ加工精製プロセス - 2013KAKENHI-挑戦的萌芽研究
木質バイオマスを原料とした工業用高品質ダイヤモンド膜の低温・常圧合成 ↗
木質バイオマス白炭機能性炭素膜水素プラズママイクロ波メタン生成材料精製特殊加工 - 2010KAKENHI-基盤研究(A)
超薄型結晶Si太陽電池の製造を可能とする大気圧プラズマ高速成膜技術の開発 ↗
シリコン大気圧プラズマCVD大気圧プラズマ酸化エピタキシャル成長表面パッシベーション太陽電池超薄型Si結晶太陽電池多結晶Si
CiNii papers
近期论文 / 文章
CiNii 覆盖日本国内期刊、论文集、图书章节。只保留最近的 10 条。
- 2024天田財団助成研究成果報告書
異種材料接合に向けた高密度・非平衡プラズマによる金属表面処理技術の開発 ↗
- 2011応用物理学会学術講演会講演予稿集
結晶シリコン太陽電池への応用に向けたプラズマ化学輸送技術の開発 ↗
- 2010ケミカルエンジニヤリング = Chemical engineering
大気圧プラズマを用いた低温・高速成膜技術 ↗
- 2010Journal of The Electrochemical Society 157
PFC-Free Dry Etching Method for Si Using Narrow-Gap VHF Plasma at Subatmospheric Pressure ↗
- 2010PFC-Free Dry Etching Method for Si Using Narrow-Gap VHF Plasma at Subatmospheric Pressure
Kazuya Kishimoto, Hiroaki Kakiuchi, and Kiyoshi Yasutake ↗
- 2006The proceedings of the 6th ICRP and 23rd SSP (Matsushima/Sendai)
Characterization of high-pressure (200-760 Torr), stable glow plasma of pure hydrogen by measuring etching properties of Si and optical emission spectroscopy ↗
- 2006The proceedings of the 6th ICRP and 23rd SSP (Matsushima/Sendai)
Low-temperature crystallization of amorphous silicon by atmospheric pressure plasma treatment in H_2/He or H_2/Ar mixtures ↗
- 2006Japanese Journal of Applied Physics 45・4B(In print)
Influence of H_2/SiH_4 Ratio on the Deposition Rate and Morphology of Polycrystalline Silicon Films Deposited by Atomospheric Pressure Plasma CVD ↗
- 19981998年度精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集
中性原子ビームのコリメーションとナノファブリケーションへの応用 ↗
- 19981998年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集
中性原子ビームのコリメーションとナノリソグラフィへの応用 ↗
How to assess fit
如何判断这位教授是否适合你
数据库的数据告诉你「这位教授在做什么」;能不能适合你,需要你自己对照以下几点判断。
- 关键词对齐
上面的关键词云里,有没有你研究计划书中反复出现的词?1-2 个重合是起点,3+ 个说明方向接近。
- 近期项目对应
看 KAKEN 项目的时间 — 近 2 年还有活跃项目说明研究室还在跑;只看项目名也大致能判断和你的问题是否相关。
- 不要只看学校名气
方向匹配度 > 学校排名。一位方向对口、还在活跃招生的副教授,往往比一位名气大但快退休的正教授更值得考虑。
- 留意招生信号
查一下该教授的研究室官网,看 OB/OG 名录里有没有中国 / 韩国 / 东南亚学生 — 这是「是否招留学生」最直接的信号。
ℹ️ 后期会加入基于 LLM 的中文画像(例如:「这位教授的研究风格偏...,适合什么样的申请者」),目前先用数据库公开字段 + 编辑建议替代。
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